藝術(shù)字，通過(guò)PS的圖層樣式繪制個(gè)性涂鴉字(5)

11.2、現(xiàn)在，我們添加一個(gè)斜面和浮雕。

樣式：內(nèi)斜面，方法：雕刻清晰，深度：144%，方向：上，大�。�8像素，軟化：0像素

角度：98度，高度：30度，光澤等高線：線性，勾選消除鋸齒

高光顏色：#1faee3，高光模式：疊加，不透明度：100%

陰影顏色：#ce43db，陰影模式：疊加，不透明度：88%

11.3、添加一個(gè)內(nèi)陰影

混合模式：正常，顏色：黑色#000000，不透明度：100%

角度：-94度，距離：0像素，阻塞：0%，大�。�10像素

等高線：錐形，勾選消除鋸齒，雜色：11%

11.4、添加一個(gè)內(nèi)發(fā)光

混合模式：線性減淡(添加)，不透明度：33%，雜色：47%，顏色：#dd8925

方法：精確，源：居中，阻塞：58%，大小：16像素

等高線：線性，勾選消除鋸齒，范圍：50%，抖動(dòng)：0%

11.5、添加一個(gè)光澤

混合模式：疊加，顏色：#f08d18，不透明度100%

角度：90度，距離：19像素，大�。�24像素

等高線：半圓，勾選消除鋸齒，勾選反相

11.6、添加一個(gè)漸變疊加

混合模式 ：線性加深，勾選仿色，不透明度：6%

漸變顏色為白到黑的漸變(具體參數(shù)請(qǐng)參見(jiàn)下圖)

樣式：線性，勾選與圖層對(duì)齊，角度：90度，縮放：60%

11.7、添加一個(gè)外發(fā)光

混合模式：線性加深，不透明度：29%，雜色：0%，顏色：黑色#000000

方法：精確，擴(kuò)展：40%，大�。�2像素

等高線：線性，勾選消除鋸齒，范圍：100%，抖動(dòng)：53%